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產(chǎn)品型號(hào)：MJLD
產(chǎn)品代碼：
產(chǎn)品價(jià)格：
最后更新：2013-01-24
關(guān) 注 度：3982
生產(chǎn)企業(yè)：北京蒙駿力達(dá)科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹高溫黑體爐
產(chǎn)品介紹
高溫黑體爐：上限溫度為1200℃以上的黑體。因?yàn)?200℃以上的溫度使用地方不多，加熱用通常的方式已經(jīng)不能解決，溫度大于1600℃只能進(jìn)行抽真空。
黑體的物理意義是：能全部吸收外部的輻射能量，同時(shí)能全部的輻射出自身全部能量的物體。量化說明：吸收率為1，發(fā)射率為1。這是理想黑體，理想黑體是一極限值。通常我們所說的黑體產(chǎn)品為人工黑體，人工黑體的發(fā)射率接近1，但不等于1。人工黑體發(fā)射率大于0.99。
我公司目前擁有國際最先進(jìn)的黑體技術(shù)，產(chǎn)品種類最全、溫度范圍最寬的黑體系列產(chǎn)品。黑體系列的工作溫度為—80～1600℃，為開口式；封閉式黑體溫度可以達(dá)到3000℃。
黑體的主要技術(shù)指標(biāo)為黑體腔口發(fā)射率和輻射溫度準(zhǔn)確性。除黑體腔的特殊設(shè)計(jì)外，腔體內(nèi)壁面溫度均勻性，是黑體技術(shù)的關(guān)鍵之一。因此為了確保黑體的產(chǎn)品質(zhì)量，通常黑體都是按溫度分段設(shè)計(jì)。
同時(shí)，我們可以根據(jù)用戶提出的特殊要求，專門定做特殊黑體。
我公司黑體核心技術(shù)來源于國防重點(diǎn)科研成果。多年來我們對黑體理論、黑體腔的設(shè)計(jì)和計(jì)算等等進(jìn)行了專門研究。產(chǎn)品的核心技術(shù)獲得了2000年國防科學(xué)技術(shù)二等獎(jiǎng)。
主要用途
標(biāo)準(zhǔn)黑體作為標(biāo)準(zhǔn)輻射源，主要用于校準(zhǔn)輻射溫度計(jì)、紅外溫度計(jì)、輻射溫度傳感器和探測器。
性能特點(diǎn)
標(biāo)準(zhǔn)黑體系列，為等溫黑體。從-80～1600℃黑體為開口式，腔口沒有任何隔離物，所發(fā)出的輻射為黑體所有波長的全輻射。1600～3000℃黑體為封閉式，需要抽真空和端頭冷卻，黑體腔封閉在真空狀態(tài)下，腔口用窗口封閉。
-80～1200℃黑體為金屬黑體腔，因此黑體腔內(nèi)的溫度均勻性很好，腔口輻射的能量隨光譜分布均勻，尤其能準(zhǔn)確校準(zhǔn)各種不同波長的紅外輻射溫度計(jì)，克服過了過去不等溫黑體，在同一溫度下，不同波長輻射溫度計(jì)（尤其是紅外溫度計(jì)）校準(zhǔn)溫度不一樣的缺陷。黑體的溫度控制，采用最先進(jìn)的溫度程序控制器和數(shù)字控溫技術(shù)，對各工作溫度點(diǎn)均分別采用獨(dú)立控制參數(shù)，使得黑體在整個(gè)工作溫度范圍內(nèi)，升溫時(shí)間短，恒溫快，穩(wěn)定性好，溫度的分辨率均在0.01～0.1℃.對于高精度的黑體，采用先進(jìn)的恒溫技術(shù)和熱管技術(shù)，溫度的分辨均在0.01℃，其產(chǎn)品的性能指標(biāo)已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平。
900～1600℃的黑體，腔體為非金屬，為了確保黑體腔表面溫度均勻，采用三段控溫和相關(guān)控制技術(shù)，配置專用溫度控制器，使得黑體腔內(nèi)表面的溫度做到的金屬腔體一樣均勻；同時(shí)，對于有通訊接口的輻射溫度計(jì)，能夠做到與計(jì)算機(jī)國接實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制和檢定。
1600～3000℃的黑體，采用石墨或鎢管為發(fā)熱體，采用低電壓大電流源加熱，采用高精度輻射溫度計(jì)，既作標(biāo)準(zhǔn)，也做溫度控制，將標(biāo)準(zhǔn)和控制全二為一；使用溫度程序控制器控制，采用真空泵保持真空，電極由循環(huán)水冷卻。
產(chǎn)品型號(hào)及技術(shù)指標(biāo)
產(chǎn)品名稱 MJLD高溫黑體爐
型 號(hào) HT-G1 HT-G2 HT-G3 HT-G4 HT- G5
工作溫度℃ 800～1600 300～1600 1000～2500 800～3000 300～1500
腔口直徑mm 30 30/40 30 30 80
發(fā)射率 ≥0.995 ≥0.999
顯示分辨率℃ 0.1℃ 0.1℃ 1℃ 1℃ 0.1℃
溫度穩(wěn)定度 ≤±0.3℃/10min ≤±1℃/10min ≤±0.3℃
不確定度 0.3%FS
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2013-01-21
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